高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制

高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制

ID:37412702

大小:2.34 MB

页数:89页

时间:2019-05-23

高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制_第1页
高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制_第2页
高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制_第3页
高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制_第4页
高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制_第5页
资源描述:

《高性能硅基发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、摘要硅是目前世界上矿藏最丰富且微电子工艺最成熟的半导体材料,也是光电集成最理想的半导体材料。但是由于硅具有间接带隙,跃迁几率很低,引起硅的发光效率极低,并且发光不稳定,因此硅基发光一直是硅光电集成中最重要的难题。另外,为实现全硅光电集成,硅探测器在光互连,大容量通讯等领域中具有深远的应用前景。硅MSM结构光电探测器工艺简单,与CMOS等工艺兼容,是硅光电集成研究的一个热点。但是,由于硅本身对光的吸收系数比较低引起对光的吸收长度较长,从而引起硅MSM结构光电探测器响应速率和响应度不高。本文针对以上两个问题进行了研究,并为硅基光电单片集成做准备工作:一.多孔硅发光的制备和钝化研究。

2、硅的发光效率低及不稳定是限制硅基发光的关键瓶颈,本文提出一种新颖的臭氧(0,)环境制备和钝化方法来改善多孔硅的发光效率,取得以下重要结果:1.该方法制各的多孔硅比传统方法制备的多孔硅发光强度增大了近一个数量级:2.对O。环境下制备和钝化的多孔硅的发光稳定性进行了两方面的研究。一方面对样品进行高功率激光持续照射30分钟的PL演变测试,发现不管是新鲜样品还是自然环境中存放129天的样品,持续的激光照射只引起很小量的PL强度衰减然后就基本维持稳定状态;另一方面对样品进行存放158天跟踪测试,发现在开始存放的61天内,发光强度不断增强,61天之后,发光强度则基本保持稳定状态。两方面的稳

3、定性研究与前人的实验报道具有更好的发光稳定性效果。3.通过xPS,PL,FTIR等测试表明臭氧环境下制备的样品表面的钝化膜比较致密,氧化程度比较高,并且样品表面的化学成分基本稳定,这是样品发光强度和稳定性改善的原因。二.硅MSM光电探测器的制备。为提高硅MSM光电探测器的响应度和响应速度,本文以实验室现有条件为基础,进行了下列工作:1.设计了平版和凹槽两种电极结构以及5-5um和5-lOum两种尺寸的硅MSM结构探测器:商性能硅接发光材料及硅MSM结构光电探测器的研制2.在本实验室内,完成了版图制备,整套半导体器件工艺流程,以及器件封装测试等工作;3.器件性能测试发现凹槽电极结

4、构的探测器比平版型探测器在响应度方面提高了约6倍,5V偏压下,凹槽电极结构的探测器对650nm波长激光的光电响应度可达到0.486A/W,内量子效率达到了92.9%;4.针对所制各的探测器暗电流偏大问题,我们也对其进行了分析讨论。本文的主要创新点有:1.所采用的O。环境制备和钝化多孔硅方法未见报道。该法具有制备简单,室温钝化的特点,且提高多孔硅发光强度和发光稳定性方面具有比国内或国外报道更好的效果。2.u型凹槽电极的硅MSM结构探测器在国内未见同类报道,其器件在5V偏压下对650nm波长激光的光电响应度为0.486A/W,比平版电极结构的探测器提高了约6倍。关键词:多孔硅;钝化

5、;Si—MsM—PD;光谱响应度。摘要AbstractSiliconbasedoptoelectronicdeviceshavebeeninvestigatedgreatly,becauseofthegreatadvantagesaffordedbythisapproach:anavailablewell—developedandwidespreadtechnology,monolithicintegrationwithcontrol/drivingelectronicsandlowcost.Butsiliconisanindirectbandgapsemiconductor,

6、whichmakesitextremelyunlikelylightemissionbyfreecarrierrecombination.Silicon-basedlightemissionisthemostimportantprobleminsilicon—basedoptoelectronicintegratedcircuits(OEICs).Ontheotherside,inordertofulfillsilicon-basedOEICs,siliconmetal·-semiconductor-metalphotodetectors(Si-MSM,·PDs)alevery

7、attractiveformanyoptoelectronicapplications,suchasopticalcommunication,high—speedchip—to—chipconnection,andhigh—speedsampling,becauseoftheplanarityofthedoubleSchottkycontacts,withoutmesastructuresorspecialepitaxiallayers,sothattheycanbeeasilyintegr

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。