【纺织工程专业】【毕业设计】 聚乳酸导电高聚物复合纤维膜电磁屏蔽性能研究

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1、（20届）毕业论文（设计）聚乳酸/导电高聚物复合纤维膜电磁屏蔽性能研究16摘要：本文用静电纺丝技术制备聚乳酸纤维膜，用原位聚合法在聚乳酸纤维膜表面镀上一层聚吡咯膜。研究了聚吡咯聚合反应的时间、温度和复合膜中聚吡咯的含量对复合纤维膜电导率及静电屏蔽性能的影响。实验结果表明，不同的聚合反应时间、不同的反应温度和添加不同的聚吡咯的量都会使得复合膜的电磁屏蔽性能发生变化，当聚合反应时间为5小时、反应温度为常温时、添加0.75克的聚吡咯使复合膜获得良好的电磁屏蔽性能。此外，本文还通过对比不同条件下处理后的复合纤维膜的导电性性能，进而分析得出

2、影响聚乳酸/导电高聚物复合纤维膜电磁屏蔽性能的客观因素。关键词：聚乳酸；聚吡咯；电导率；电磁屏蔽性16TheelectromagneticShieldingpropertiesofpolypyrrole-coatedpoly(L-Lactic)acidNonwovensAbstract：Poly(l-lactic)acid(PLLA)nanofibernonwovenhasbeenfabricatedbyelectrospinning.Thepolypyrrole(PPy)-coatedPLLAcompositefibernonw

3、ovenwassynthesizedbyinsitupolymerization.Theinfluenceofpolymerizationtime,temperatureandthePPycontentincompositeontheconductivityandelecytrostaticshieldingperformancewereresearched.Theresultsshowthatpolymerizationreactiontime,temperatureandcontentofpolypyrrolewillaffe

4、cttheconductivityandelectromagneticshieldingperformanceofthecompositemembrane.Whenthepolymerizationreactiontimewas5hours,reactiontemperaturewasatnormaltemperatureandthecontentofPPywas0.75grams,thecompositemembraneobtaingoodconductivityandelectromagneticshieldingperfor

5、mance.Inaddition,thispaperalsothroughcomparingthedifferentconditionsofcompositefibermembraneafterprocessingtheconductivityoftheperformanceandthencalculatedpolylacticacid/conductivepolymerinfluenceofcompositefibermembraneelectromagneticshieldingperformanceobjectivefact

6、ors.Keywords:Polylacticacid;Polypyrroleintercalative;Conductivity;Electromagneticshielding16目录1绪论11.1概述11.2发展背景、现状及趋势11.2.1历史背景11.2.2国内外发展现状21.2.3发展趋势32研究基本原理42.1聚乳酸42.2聚吡咯42.3静电纺丝52.3.1原理52.3.2影响因素52.4复合纤维膜53实验部分63.1实验用品63.1.1试剂63.1.2实验仪器和设备63.2实验方法63.2.1电导率的测定63.2.2

7、电阻率63.2.3电阻率的测定73.3实验配方73.4实验步骤73.4.1静电纺丝法制备聚乳酸纤维膜73.4.2聚乳酸/聚吡咯复合纤维膜的制备83.4.2.1硫酸掺杂聚吡咯/聚乳酸复合纤维膜的制备84实验结果与讨论94.1电导率94.1.1厚度测量及结果94.2电磁屏蔽性能104.2.1导电性和屏蔽性能的关系104.2.2反应时间对电磁屏蔽性能的影响104.2.3反应温度对电磁屏蔽性能的影响114.2.4掺杂物对电磁屏蔽性能的影响114.2.5聚吡咯的量对电磁屏蔽性能的影响125结论13参考文献14致谢15附录17附录A样品厚度数

8、据表17附录B样品电流电压等18161绪论1.1概述随着电子技术发展迅速,计算机、无线电通讯得以广泛应用和密集配置,使空间充斥了不同波长和频率的电磁波,这些电磁波干扰了电子产品的正常使用,成为继大气污染、水污染、噪声污染后的一种新的污染源——电磁污