去离子水设备主要技术参数及应用描述

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1、去离子水设备主要技术参数及应用描述　　1、去离子了水设备阴阳离子交换　　去离子水设备技术简介　　去离子水设备离子交换是指水通过离子交换柱时，水中的阳离子和水中的阴离子(HCO-等离子)与交换柱中的阳树脂的H+离子和阴树脂的OH-离子进行交换，从而达到脱盐的目的。阳、阴混柱的不同组合可使水质达到更高的要求。是目前成熟的常规制取纯水、超纯水的装置。离子交换器分为阳离子交换器(软化器)、阴离子交换器、混合离子交换器等。　　缺点：树脂饱和后需要用酸、碱再生。　　2、去离子水设备混合离子交换器(混床)：　　混床是指阴、阳树脂装在同一设备内，水经过混匀的阴、阳树脂层进行除盐。混床可以看

2、作是由许许多多阴、阳树脂交错排列而组成的多组式复床，其阴、阳离子交换几乎是同时进行的。经H型交换产生的H+和经型交换OH-产生的可以互相中，因此交换反应进行十分彻底，出水水质很好。用于阳阴交换器，反渗透除盐设备后，制取高纯水。离子交换树脂交换容量饱和，即需再技术资料由杭州莱特莱德水处理公司提供生处理，在容器内把阳阴离子分层，进行酸碱再生，再生完毕后用压缩气体使阳阴离子重新混合。　　3、去离子水设备主要的技术参数　　1、工作压力：0.1MPa～0.6Mpa　　2、工作温度：5～40(特殊温度可以定做)　　3、单机流量：1T～100T　　4、操作方式：手动操作或自动控制　　5、

3、产品规格：直径：φ250～φ2000　　高H：1600～4500(特殊要求可以定做)　　6、过滤速度：15　m/h～25m/h　　7、筒体材料：304、316L、A3碳钢及有机玻璃　　离子交换混床为深度脱盐设备，用于制造高纯水，产水电阻率最高为10-18MΩ·CM(25C)，二氧化硅含量(SIO2)≤0.02mg/L，混床分为单、双床、抛光床、双床可一用一技术资料由杭州莱特莱德水处理公司提供备，(不影响生产用水的连续性);可串联使用，以提高产水水质，有效利用树脂的交换容量;当生产用水量大时，可并联使用，运行相当灵活、方便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。环保型再生系统，高浓

4、度酸碱通过射流器与进水按一定的比例配制成再生溶液进行再生，不需要酸碱泵及酸碱配制储罐，防止酸雾对环境的污染。　　4、去离子水设备用途：　　1、制药水质满足中国药典GMP标准　　2、电子行业广泛用于单晶硅半导体集成电路块，显像管制造系统　　3、化工原料配料用水；　　4、电镀行业冲洗用纯水；　　5、生物工程；　　6、电路板芯片冲洗用纯水。技术资料由杭州莱特莱德水处理公司提供