扩建年产硅片电极15000片生产线建设项目环境影响报告表

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1、.扩建年产硅片电极15000片生产线建设项目环境影响报告表（试行）..《建设项目环境影响报告表》编制说明《建设项目环境影响报告表》由具有从事环境影响评价工作资质的单位编制。1.项目名称——指项目立项批复时的名称，应不超过30个字（两个英文字段作一个汉字）。2.建设地点——指项目所在地详细地址，公路、铁路应填写起止地点。3.行业类别——按国标填写。4.总投资——指项目投资总额。5.主要环境保护目标——指项目区周围一定范围内集中居民住宅区、学校、医院、保护文物、风景名胜区、水源地和生态敏感点等，应尽可能给出保护目标、性质、规模和距厂界距离等。6.结论与建议——给出本项目清洁生产、达标

2、排放和总量控制的分析结论，确定污染防治措施的有效性，说明本项目对环境造成的影响，给出建设项目环境可行性的明确结论。同时提出减少环境影响的其他建议。7.预审意见——由行业主管部门填写答复意见，无主管部门项目，可不填。8.审批意见——由负责审批该项目的环境保护行政主管部门批复。..建设项目基本情况项目名称扩建年产硅片电极15000片生产线建设单位##半导体设备技术有限公司法人代表联系人通讯地址联系电话传真邮政编码建设地点##工业园区立项审批部门批准文号XXXXXXXXXXX建设性质√易地扩建□新建□改扩建□技改□行业类别及代码C3169占地面积(平方米)1000绿化面积(平方米)总投

3、资(万元)500其中环保投资（万元）25环保投资占总投资比例5%评价经费（万元）10预期投产日期原辅材料（包括名称、用量）及主要设施规格、数量（包括锅炉、发电机等）原材料（包括名称，用量）序号名称单位原量增量1硅片电极片/年450010500辅助材料（包括名称，用量）序号名称单位原量增量1硅片片/年4500105002水t/a300051003电千瓦时/年1002334研磨剂t/a0.40.935研磨粉t/a2.55.836超声波清洗剂t/a0.20.477抛光剂t/a0.30.784-1-6酸t/a2.55.8396-1-1酸t/a1.53.510HF酸t/a0.51.1711

4、硅藻土t/a24.67..主要设施规格，数量序号设备名称数量规格，型号1CNC-300机床2台HAASSL-302CNC机床3台HAASVF-43抛光机1台20B4研磨机1台20B5打标机1台6超声波清洗机1台五站式7超声波清洗机1台两站式8空气压缩机2台恺撒9纯水制备系统1套I纯水净化系统10污水预处理系统1套主要原材料及能源消耗水及能源消耗量名称消耗量名称消耗量水（t/a）5600燃油（t/a）电（千瓦时/年）4000燃气（标立方米/年）燃煤（t/a）其它废水(工业废水、生活污水)排放量及排放去向：扩建工程废水总排放量，其中工业废水排放量为，生活污水排放量为57.6t/a。污

5、水通过市政污水管网进园区污水处理厂处理，其中项目中的研磨、抛光污水需进行预处理，而车间场地冲洗用水,制纯水不合格水,清洗废水,生活污水,酸洗废水为直排污水，尾水排入吴淞江。放射性同位素和伴有电磁辐射的设施的使用情况无..工程内容及规模：1）项目名称：扩建年产硅片电极15000片生产线（2）建设单位：##半导体设备技术有限公司（3）建设性质：扩建（4）建设地点：##工业园区（5）建设内容及平面布置：项目为扩建项目，为生产规模扩大，原生产4500片/年的硅片电极，现扩产到15000片/年。（6）产品及生产规模：现硅片电极扩产到15000片/年。（7）工作制度及定员：本项目实行三班制，

6、每班8小时，白天生产，年工作300天。本项目投入运行后，原有职工50人，新增员工10人建设项目（扩建项目）主体工程及产品方案序号工程名称（车间、生产装置或生产线）产品名称及规格设计能力年运行时数扩建前扩建后增量1生产工程硅片，硅片电极10500片/年15000片/年450片/年2纯水制备工程100级纯水不达标水3污水处理工程直排污水700t/a公用及辅助工程建设名称设计能力备 注贮运工程公用工程给水、排水、供热、供汽、供电、供气、绿化等DI水系统提供水配电生产用水取自厂区市政水网环保工程废气处理废水处理硅藻土吸附固废处置其他..与拟建项目有关的原有污染情况及主要环境问题：1、废水

7、现有硅片电极生产装置废水主要来源于生产过程中的超声清洗产生的废水，年产生量为2030m3。废水采取中和、沉淀和生化处理后废水pH值在6-9之间、CODCr年的排放浓度小于100mg/L、的排放浓度小于10mg/L。排放浓度符合《污水综合排放标准》（GB8978-1996）表中三级标准2、废气（1）有组织排放尾气见下表表3有组织尾气排放情况表项目污染物排放浓度(mg/m3)排放速率(kg/h)排放量(kg/a)排气筒高度(m)是否达标A装置氮氧化物102060015达标B装置氮氧化