不同晶面择优取向铜镀层在氯化钠溶液中的耐蚀性-论文.pdf

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1、Vo1.32NO.1不同晶面择优取向铜镀层在氯化钠溶液中的耐蚀性方华术,丁俊杰,姜赫(东北石油大学机械科学与工程学院,黑龙江大庆163318)摘要:以304不锈钢为基材,采用直流电沉积法制得具有不同最resistance.ThemainreasoniSthatthecoppercoating优取向的铜镀层。镀液组成与工艺条件为:CuS04'5H20250g/L,obtainedatahighcurrentdensityhashighercorosion98%(质量分数)H2S04100g/L,温度3O。C

2、,电流密度1A/dmpotentialandpolarizability,andtheatomsof(111)lattice或15A/dm,空气搅拌。分别采用扫描电镜和x射线衍射分析planearelinedmoredenselythantheatomsof(220)lattice镀层的表面形貌和微观结构,以浸泡腐蚀和电化学法研究了镀plane,makingthemicro-planeofcoppercoatingmore层的耐蚀性。结果表明,低电流密度(1A/dm)下制备的镀层表compactincel

3、lsize.面为片状结构,呈(220)晶面择优取向,高电流密度(15A/din~)Keywords:copperelectroplating;currentdensity;prefered下制备的镀层形貌为胞状,呈(111)品面择优取向。与低电流密orientation;corrosionresistance;micro—morphology度-F*'I备的铜镀层相比,高电流密度下制备的铜镀层在质量分First.author’Saddress:CollegeofMechanicalScience数为3.5

4、%的NaC1溶液中的腐蚀速率较小,耐蚀性较好。其主andEngineering,NortheastPetroleumUniversity,Daqing要原因在于高电流密度下制备的铜镀层腐蚀电位高,极化率大,163318.China以及(111)晶面铜原子排列比(220)晶面密集,其在晶胞尺度上的微观小平面更致密,从而提高了铜镀层的耐蚀性。铜因具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性等而关键词:镀铜;电流密度;择优取向;耐蚀性;微观形貌被广泛应用在电子工业中,普通印刷电路板表面覆中图分类号:TG178;TQ153

5、.14文献标志码:A盖裸露的铜镀层与腐蚀介质接触时会被腐蚀。石化企文章编号:1004—227X(2013)01—0042—03业设备中的接点或触点上的铜镀层也经常出现严重腐Corrosionresistanceofcoppercoatingswithdifferentpreferredorientationsinsodiumchloridesolution//蚀。辜敏等[研究了电流密度对铜镀层组织结构和表FANGHua*.DINGJun-jieJIANGHe面形貌的影响,但未涉及对铜镀层耐蚀性的研究。本A

6、bstract:Coppercoatingswithdifferentpreferred文使用硫酸铜酸性镀液,在低电流密度(1A/dm)和高orientationswerepreparedbydirectcurrentelectro-电流密度(15A/dm2)下电沉积制备铜镀层,利用扫描depositionusingstainlessstee1304assubstratefromabath电子显微镜观察铜镀层的表面形貌,通过浸泡试验和containingCuSO4‘5H20250g/Land98%H280

7、4100g/Lat30。Candcurrentdensity1A/dmor15A/dm.Thesurface电化学法研究了具有择优取向铜镀层的耐蚀性,并给morphologyandmicrostructureofthecoppercoatingswere出了理论解释。analyzedbyscanningelectronmicroscopeandX—raydiffractometer,respectively.Thecorrosionperformanceof1实验thecoppercoatingswass

8、tudiedbyimmersioncorrosiontest1.1工艺流程andelectrochemicalmeasurements.Theresultsshowthatthe阳极为纯铜,阴极为304不锈钢(工作面积为coppercoatingobtainedatalowcurrentdensity(1A/dm~)50mm×25mm,单面镀,非电沉积表面用环氧树脂密hasalamellarstructureanda(2201

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